Toppan Photomasks 核準(zhǔn)在中國(guó)投入全新 65 納米至 14 納米的先進(jìn)技術(shù)及產(chǎn)能計(jì)劃
全球業(yè)界首選光罩合作伙伴Toppan Photomasks, Inc.（TPI）10日宣布核準(zhǔn)對(duì)近期擴(kuò)建的中國(guó)上海廠的下一階段投資計(jì)劃；該廠由TPI獨(dú)資子公司ToppanPhotomasks Company Limited, Shanghai（TPCS）營(yíng)運(yùn)。TPI將對(duì)此工廠再投資8,000萬(wàn)美元以展現(xiàn)其對(duì)中國(guó)快速成長(zhǎng)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)及客戶的長(zhǎng)期承諾。TPI先前已投資2,000萬(wàn)美元擴(kuò)建上海二廠（TPCSShanghai II）；該廠現(xiàn)已量產(chǎn)并且為中國(guó)唯一提供全方位技術(shù)及產(chǎn)品的商業(yè)光罩廠。
TPI CEO Mike Hadsell表示：“相較于其他供應(yīng)商，上海廠除了提供中國(guó)客戶縮短兩天周期的優(yōu)勢(shì)外，并有利于加速客戶攻占市場(chǎng)的時(shí)效。今天的宣布除了以上優(yōu)勢(shì)，并擴(kuò)大光罩生產(chǎn)能力至28納米。上海廠的先進(jìn)技術(shù)也將更進(jìn)一步延伸至14納米，以符合中國(guó)半導(dǎo)體市場(chǎng)快速演進(jìn)的需求。此外，上海廠區(qū)也有足夠的擴(kuò)建空間以支持客戶在未來10年甚至更長(zhǎng)遠(yuǎn)的產(chǎn)能需求。”
甫擴(kuò)展的上海二廠坐落于目前公司營(yíng)運(yùn)地（上海漕河涇開發(fā)區(qū)），除了擁有先進(jìn)的一級(jí)無(wú)塵室及設(shè)備外，并有利于下一階段的擴(kuò)展計(jì)劃。此階段的生產(chǎn)能力及技術(shù)將聚焦于65至14納米的邏輯與先進(jìn)內(nèi)存（DRAM及NAND）。待今日宣布的計(jì)劃完成后，仍將有40%的無(wú)塵室空間以做為日后擴(kuò)展所需。
編輯：admin 最后修改時(shí)間：2018-01-05
